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難溶金屬硅PECVD設備[產品打印頁面]

如果您對該產品感興趣的話,可以
產品名稱: 難溶金屬硅PECVD設備
產品型號: PECVD設備
產品展商: 上海升利
產品文檔: 無相關文檔

簡單介紹

難溶金屬硅PECVD設備 PECVD (等離子體增強化學氣相沉積) 設備用于太陽能電池、多晶硅薄膜電池研究,也可沉積氧化硅、氮化硅、多晶硅及難溶金屬硅化物等多種薄膜。


難溶金屬硅PECVD設備  的詳細介紹

難溶金屬硅PECVD設備
技術指標

· 系統極限真空度:≤6.67×10-5Pa
· 真空室尺寸Ф400mm×300mm
· 樣品大小Ф100mm
· 熱電偶閉環反饋控制加熱溫度 600℃±1℃
· 四路質量流量計進氣
 

   應用領域

    PECVD (等離子體增強化學氣相沉積) 設備用于太陽能電池、多晶硅薄膜電池研究,也可沉積氧化硅、氮化硅、多晶硅及難溶金屬硅化物等多種薄膜。

   產品說明

    由PECVD室、上下電極、射頻電源、樣品加熱臺、泵抽系統、真空測量系統、電控系統、氣路系統等組成。

特別說明:
我公司會盡力為您提供標準、**的信息,但不對信息中可能出現的錯誤或遺漏承擔責任。
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